新应材（4749）2月营收月增21.4%、年增40.6%，创历史新高，累计前二月营收年增28.4%；分析师指出，成长动能来自客户新制程节点相关材料放量。应主要客户要求，预计于4月前，将更改营收认列模式为VMI，原预期第1季营收动能较弱，此次2月营收表现优于预期。
分析师表示，2026年营收主要成长动能，依赖新竹宝山P1厂以及高雄P1厂，2奈米制程的产能爬坡。Rinse（表面改质剂）不论在N3或是N2制程，大约80至85道光罩的曝光制程中皆须使用，因此用量庞大。
同时，BARC（底部抗反射层）与EBR（晶边清洗剂）两项产品是针对2奈米条件严苛的特殊层开发，仅在特定的十几至二十几道制程中使用。虽然应用道数较少，但具备较高单价与进入门槛，也将随N2产能开出带来实质营收贡献。
半导体前段制程使用的KrF光阻剂，目标是取代现有日商份额，预期有望于2027年通过客户验证，2028放量，2030年达到10亿新台币水准。
此外，未来焦点为半导体大厂2奈米制程开始量产，新应材原有Rinse，再加上BARC与EBR打入供应链；高雄路竹二期厂，预期将供应N3、N2 制程材料，产能规划可满足客户至2030年的需求，预估今年每股获利上看17.1元。
如没特殊注明，文章均来源于互联网，版权归原创作者所有，如有侵权，请联系我们处理！
