台特化（4772）昨（18）日召开股东会。展望2026年，台特化指出，AI需求带动先进制程产能扩充，目标今年营收双位数成长。未来研发方向更朝原子层沉积（ALD）前驱特化材料努力。
台特化指出，受惠AI加速器与高效能运算 (HPC) 带动逻辑晶片先进制程产能扩充，高阶矽烷原料之刚性需求持续提升，加上并购效应推助，主产品矽乙烷（Disilane）、出货量预计维持强劲力道，无水氟化氢 (AHF）也将更进一步挹注营收，并投入矽基前驱体类产品研发。
针对2026年营业计划，台特化于年报中指出，将持续深化技术护城河与战略结盟。在自主研发与升级部分，将投入矽基前驱体类产品研发，并扩充超微量元素分析实验室至 ppt （兆分之一）等级。此外，也将致力产能精实化，以自有技术进行产线去瓶颈化，在不大幅增加资本支出的前提下，有效提升矽乙烷产能与毛利。
对于今年预估销量，主产品矽乙烷因技术升级、产能放大，估维持强劲成长；台特化表示，制程微缩带动用量倍增，AI PC与AI智慧手机换机循环也挹注需求，加上关键客户先进制程新厂进入量产高峰期，台特化出货规模估将同步放大。去年通过验证的新产品无水氟化氢 (AHF)今年营收也可望显著放大、成为第二成长引擎。
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