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华钼助攻台积矽革命

时间:2026-07-15 16:07 来源:未知 浏览: 次

ASML、台积电与imec推进二维(2D)半导体材料技术,以钼、钨取代矽材料。对此,华钼(6990)表示,随著半导体制程持续微缩与新世代晶片发展,含钼材料成半导体的应用关键,二硫化钼(MoS2)就是新一代二维半导体的材料代表,对于助攻台积电矽革命,该公司有信心。

华钼表示,该公司具备稳定的三氧化钼生产及提纯能力,虽然现阶段产品与半导体规格仍有差距,但可透过二次提纯技术,将现有三氧化钼升级至半导体等级,为未来切入下一代半导体材料市场预作准备。

业内指出,二维(2D)半导体材料技术未来可望取代「矽」,将引爆晶圆材料革命,进一步说,钼、钨等材料将引领「后矽时代」的半导体材料技术发展,前景可期。

在新材料布局逐步受到市场关注之际,华钼营运同步升温,6月合并营收重返2亿元大关、达2.02亿元,年增101.9%;累计上半年合并营收9.51亿元、年增66.2%,反映高值化产品出货增加,也显示钼材料需求持续增温。

法人认为,华钼一方面受惠非中系、大陆管制战略金属、稀土效应下的供应链重组,另一方面提前布局半导体级钼材料,营运已逐步展现成长动能。

近期ASML、台积电与比利时微电子研究中心(imec)共同完成300毫米晶圆二维材料电晶体整合,并成功在同一片12吋晶圆制作nFET及pFET元件。

其中,nFET采用二硫化钼作为通道材料,代表MoS2已从实验室研究跨入晶圆级制程验证,也被视为1奈米以下先进制程的重要候选材料。

华钼指出,生产半导体级二硫化钼的核心,在于掌握高品质前驱物,也就是半导体规格三氧化钼。公司现已建立稳定的三氧化钼生产及纯化能力,未来可借由二次提纯技术,持续提升材料纯度,朝半导体规格迈进,以因应先进制程对高纯度钼材料的需求。

除了技术能力外,华钼亦建立完整的上游钼原料供应体系,同时涵盖天然钼矿及废触媒回收两大来源,可有效降低原料供应波动风险,维持供料稳定性。公司表示,废触媒回收也符合循环经济及绿色供应链发展方向,有助提升材料竞争力。

法人分析,二维半导体材料距离大规模量产仍需时间,但随著全球晶圆厂加快布局埃米世代制程,高纯度钼材料重要性将持续提升。

若未来二硫化钼正式导入1奈米以下先进制程,具备高纯度三氧化钼量产与提纯能力的供应商,可望率先受惠,华钼已提前卡位下一波半导体材料升级商机。


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