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AI 资料中心带动 CPO 商机 法人看好 GC、EC 两大技术成焦点

时间:2026-07-23 14:58 来源:未知 浏览: 次

随著AI资料中心高速发展,矽光子与CPO技术成为市场焦点。其中,光栅耦合(GC)与边缘耦合(EC)两大技术路径各具优势,未来发展备受市场关注。

法人表示,在矽光子与CPO技术中,主要分为光栅耦合(Grating Coupler,GC)与边缘耦合(Edge Coupler,EC)两大技术路径,分别代表不同的光讯号耦合方式。

法人指出,目前资料中心的CPO产品仍以Scale-out架构为主,预期至2027年底将逐步导入Scale-up应用。由于两者在架构设计与技术需求上有所不同,GC与EC方案皆有机会对应不同应用场景。

无论是光学元件厂大立光(3008),或玻璃材料供应商Corning(GLW),皆可望切入未来资料中心建置商机。目前市场仍处于快速发展初期,待2027年上半年完成客户验证测试后,下半年可望展开小量试产,并开始贡献营运。

法人表示,由于现阶段采用共同载板的CPO封装技术门槛较高,目前仅辉达(NVIDIA)平台确定将大规模采用,但最终量产规格仍由多家业者积极竞逐。若ASIC市场后续导入OBO或NPO技术,将有助加速全光传输方案渗透,带动光通讯产业升级。

届时,主动与被动光收发器厂商如中际旭创(300308.SZ)、天孚通信(300394.SZ)可望受惠于出货放量,网通设备厂智邦(2345)也将受惠于交换器由铜制程逐步升级至光制程的趋势。


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